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本发明涉及砷化镓晶片表面处理技术领域，尤其涉及改进砷化镓晶片表面质量的方法，包括以下步骤：S1、用十二烷基硫酸钠溶液对砷化镓晶片进行超声波处理，结束后用去离子水冲洗10
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该专利属于厦门华芯晶圆半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门华芯晶圆半导体有限公司授权不得商用。

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