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本实用新型提供一种等离子清洗设备，包括机体、托盘及真空泵，所述机体内开设反应腔，所述真空泵连通所述反应腔，所述反应腔内自上而下设置上电极及下电极，所述反应腔内设置承载装置，所述承载装置位于所述上电极与所述下电极之间，所述承载装置用于承载所述...
该专利属于江西兆驰半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江西兆驰半导体有限公司授权不得商用。

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