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本发明提供一种改善光刻胶形貌不对称的辅助图形设计方法，目标图形两侧存在光刻胶负荷厚度不对称的区域；依据设计规则，设置多个辅助图形环绕在目标图形周围；并且光刻胶负荷厚度不对称的区域较辅助图形远离所述目标图形；其中在光刻胶负荷厚度不对称的区域与...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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