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本发明涉及半导体设备废液排放的领域，具体而言，涉及一种废液排放系统、废液排放方法及应用。所述废液排放系统，包括：压缩气体储存装置、第一气动隔膜阀门、虹吸装置、第二气动隔膜阀门、沉积腔室和气液分离装置；其中，所述压缩气体储存装置、所述第一气动...该专利属于北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）所有，仅供学习研究参考，未经过北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）授权不得商用。