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本发明公开一种三端忆阻神经元器件及其制备方法，其中制备方法包括依次进行的以下步骤：于衬底上表面制备输入端电极，获得第一中间件，其中输入端电极为银电极；于所述第一中间件上表面制备绝缘层，并在绝缘层上开设接触通孔；于绝缘层上表面制备活性层，并于...
该专利属于浙江大学杭州国际科创中心所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学杭州国际科创中心授权不得商用。

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