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本发明公开了一种基于纹影和MIE方法的气液两相流同场测试系统及处理方法，其中，该系统主要包括：两个凹透镜、光源、两个反光镜、两个相机、刀口、分光镜和自动调节装置，其中，在待测定容弹左右两侧预设位置处分别设置两个凹透镜，待测定容弹与左侧凹透镜...
该专利属于哈尔滨工程大学所有，仅供学习研究参考，未经过哈尔滨工程大学授权不得商用。

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