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光掩模坯制造技术
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文档序号:34601175
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本发明涉及光掩模坯,其包含透明衬底和含铬膜。所述含铬膜由一个或多个铬化合物层构成,铬化合物层由包含Cr、N和可选的O的铬化合物形成,并且具有如下组成:Cr含量≥30at%,Cr+N+O总含量≥93at%,且满足式:3Cr≤2O+3N。满足第...
该专利属于信越化学工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。
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