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提供了一种用于光刻设备的表膜隔膜，所述隔膜包括基体，所述基体包括分布在其中的多个包含物。还提供了一种制造所述表膜隔膜的方法、包括所述表膜隔膜的光刻设备、用于光刻设备的包括所述隔膜的表膜组件、以及表膜隔膜在光刻设备或方法中的用途。光刻设备或方...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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