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一种溅射沉积设备(100)，包括：等离子体产生装置(106)，布置成在溅射沉积区(112)内为靶材料的溅射沉积提供单一等离子体(120)；传送系统(110)，布置成在传送方向(D)上将基板(104)传送通过溅射沉积区；以及一个或多个靶支撑组...
该专利属于戴森技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过戴森技术有限公司授权不得商用。

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