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本发明提供了一种清洗溶液的监测方法及其监测系统，清洗溶液的监测方法，包括：提供一裸硅晶圆，将所述裸硅晶圆放入含有双氧水的清洗溶液中清洗，所述裸硅晶圆的表面自然形成介质层；检测所述裸硅晶圆表面的所述介质层的厚度，并判断所述介质层的厚度是否位于...
该专利属于广州粤芯半导体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州粤芯半导体技术有限公司授权不得商用。

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