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一种单分子层分子晶体制备及图案化的普适性方法技术
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文档序号:34545998
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本发明提供一种单分子层分子晶体制备及图案化的普适性方法。MMCs的制备方法,包括1)配制有机半导体分子溶液;2)基底预处理;3)将裁剪好的模板放置在基底上;4)将步骤1)中配制的有机半导体分子溶液滴加到模板上,放置至有机半导体分子溶液中的溶...
该专利属于中国科学院化学研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院化学研究所授权不得商用。
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