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本发明提供一种能够以简单的结构防止设置面积大型化、且等离子体密度高、等离子体的均匀性良好的等离子体处理装置。等离子体处理装置（10）包括：等离子体处理室（12）；圆筒状的电感室（14），其与等离子体处理室（12）邻接设置；多个线圈（26A、...该专利属于北京芯士联半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京芯士联半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种能够以简单的结构防止设置面积大型化、且等离子体密度高、等离子体的均匀性良好的等离子体处理装置。等离子体处理装置（10）包括：等离子体处理室（12）；圆筒状的电感室（14），其与等离子体处理室（12）邻接设置；多个线圈（26A、...