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本发明的目的是提供尽管硼含有率降低但仍然具有高光学特性的偏振膜的制造方法及其制造装置。一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理...
该专利属于住友化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过住友化学株式会社授权不得商用。

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