偏振膜的制造方法和制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的是提供尽管硼含有率降低但仍然具有高光学特性的偏振膜的制造方法及其制造装置。一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；使前述染色工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；对前述交联工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及，将照射前述电磁波后的前述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。洗的清洗工序。洗的清洗工序。

【技术实现步骤摘要】
偏振膜的制造方法和制造装置
[0001]本申请是申请日为2017年8月16日、申请号为201710702074.3、专利技术名称为“偏振膜的制造方法和制造装置”的申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法和制造装置。

技术介绍

[0003]偏振板被广泛用作液晶显示装置等图像显示装置中的偏振元件等。作为偏振板，通常呈现在偏振膜的单面或两面使用粘接剂等贴合透明树脂膜(保护膜等)而成的构成。
[0004]偏振膜主要通过下述工艺来制造：实施使包含聚乙烯醇系树脂的原卷材膜浸渍于含有碘等二色性色素的染色浴中的处理，接着使其浸渍于含有硼酸等交联剂的交联浴中的处理等，并且，在上述任意阶段中将膜进行单轴拉伸。单轴拉伸包括：在空气中进行拉伸的干式拉伸、以及在上述染色浴和交联浴等液体中进行拉伸的湿式拉伸。
[0005]经交联的偏振膜如果被加热则容易收缩，耐久性有时不充分。日本特开2013
‑
148806号公报(专利文献1)记载了将偏振膜的硼含有率降低至1～3.5重量％而提供耐久性优异的偏振膜。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特开2013
‑
148806号公报

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的问题
[0010]然而，对于偏振膜而言，如果降低硼含有率则得不到充分的交联度，光学特性有时降低。本专利技术的目的在于，提供尽管硼含有率降低但仍然具有高光学特性的偏振膜的制造方法、及其制造装置。此外，其目的在于，提供通过这种偏振膜的制造方法而得到的新型偏振膜。
[0011]用于解决问题的方法
[0012]本专利技术提供以下示出的偏振膜的制造方法、制造装置和偏振膜。
[0013]〔1〕一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：
[0014]将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；
[0015]使前述染色工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；
[0016]对前述交联工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及
[0017]将照射前述电磁波后的前述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。
[0018]〔2〕根据〔1〕所述的偏振膜的制造方法，其中，在前述电磁波照射工序中，前述电磁波的照射热量相对于前述聚乙烯醇系树脂膜的每单位体积为100J/cm3以上且50kJ/cm3以下。
[0019]〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的偏振膜的制造方法，其还包括：在前述交联处理之后且照射前述电磁波之前，将附着于前述聚乙烯醇系树脂膜的表面的前述水溶液去除的除液工序。
[0020]〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，前述电磁波照射工序在将前述聚乙烯醇系树脂膜从前述交联浴中拉出后5秒以内进行。
[0021]〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，在前述交联工序中，前述交联浴包含交联剂的水溶液，所述交联剂的水溶液包含相对于水100重量份为1.5重量份以上且3重量份以下的前述硼化合物。
[0022]〔6〕一种偏振膜的制造装置，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的制造装置，其具备：
[0023]将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色部；
[0024]使前述染色处理后的前述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联部，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；
[0025]对前述交联处理后的前述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射部，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及
[0026]将照射前述电磁波后的前述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗部。
[0027]〔7〕一种偏振膜，其是将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行了染色的偏振膜，
[0028]硼含有率为2.0～3.5重量％，
[0029]能见度(视感度)校正单体透射率为42.0％以上，
[0030]能见度校正偏振度为99.990％以上，
[0031]波长480nm下的吸收轴方向的吸光度A
480
与波长600nm下的吸收轴方向的吸光度A
600
之比A
480
/A
600
为0.75以上且1.00以下。
[0032]专利技术效果
[0033]根据本专利技术，能够提供尽管硼含有率降低但仍然具有高光学特性的偏振膜的制造方法及其制造装置。此外，根据本专利技术，能够提供硼含有率低且光学特性优异的偏振膜。
附图说明
[0034]图1为示意性地示出本专利技术的偏振膜的制造方法和其中使用的偏振膜制造装置的一例的截面图。
[0035]图2为示出每种电磁波照射器的辐射能谱的图。
具体实施方式
[0036]<偏振膜的制造方法>
[0037]本专利技术中，偏振膜是使经单轴拉伸的聚乙烯醇系树脂膜吸附二色性色素(碘、二色
性染料)并取向而得到的。构成聚乙烯醇系树脂膜的聚乙烯醇系树脂通常通过将聚乙酸乙烯酯系树脂进行皂化而得到。其皂化度通常约为85摩尔％以上、优选约为90摩尔％以上、更优选约为99摩尔％以上。聚乙酸乙烯酯系树脂例如除了属于乙酸乙烯酯均聚物的聚乙酸乙烯酯之外，还可以为乙酸乙烯酯与能够和其共聚的其它单体形成的共聚物等。作为能够共聚的其它单体，可列举出例如不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类等。聚乙烯醇系树脂的聚合度通常约为1000～10000、优选约为1500～5000左右。
[0038]这些聚乙烯醇系树脂可以进行了改性，也可以使用例如用醛类进行了改性的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、聚乙烯醇缩丁醛等。
[0039]本专利技术中，作为制造偏振膜的起始材料，使用厚度为65μm以下(例如60μm以下)、优选为50μm以下、更优选为35μm以下、进一步优选为30μm以下的未拉伸的聚乙烯醇系树脂膜(原卷材膜)。
[0040]由此能够得到市场需求日益增加的薄膜的偏振膜。原卷材膜的宽度没有特别限定，可以为例如400～6000mm左右。原卷材膜例如以长尺寸的未拉伸聚乙烯醇系树脂膜的卷(原卷材卷)的形式来准备。
[0041]此外，本专利技术中使用的聚乙烯醇系树脂膜可以层叠于支承其的基材膜，即，该聚乙烯醇系树脂膜可以以基材膜与其上层叠的聚乙烯醇系树脂膜形成的层叠膜的形式来准备。此时，聚乙烯醇系树脂膜可通过例如在基材膜的至少一个面涂布含有聚乙烯醇系树脂的涂布液后，使其干燥来制造。
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：将所述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；使所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；对所述交联工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。2.根据权利要求1所述的偏振膜的制造方法，其中，在所述电磁波照射工序中，所述电磁波的照射热量相对于所述聚乙烯醇系树脂膜的每单位体积为100J/cm3以上且50kJ/cm3以下。3.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其还包括：在所述交联处理之后且照射所述电磁波之前，将附着于所述聚乙烯醇系树脂膜的表面的所述水溶液去除的除液工序。4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，所述电磁波照射工序在将所述聚乙烯醇系树脂膜从所述交联浴中拉出后5秒以内进行。5.根据权利要求1～4中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，在所述交联工序中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：住田幸司，赵天熙，朴重万，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：