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公开了用于抽空半导体处理腔室的真空泵、真空泵组和方法。该真空泵被构造成安装到半导体处理腔室，以将该腔室抽空到1 mbar和5
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该专利属于爱德华兹有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过爱德华兹有限公司授权不得商用。

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