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本发明实施例公开了一种掩模版缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质。其中该方法包括：确定待测掩模版的初检图像与所述初检图像的初检缺陷；确定待测掩模版的复检图像；其中，所述初检图像与所述复检图像通过采用不同照明条件和镜头进行图像拍摄得到，且所...
该专利属于合肥御微半导体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥御微半导体技术有限公司授权不得商用。

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