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本发明涉及一种基底的处理方法、处理设备及半导体器件结构的制备方法，包括：使用第一酸洗溶液对基底的背面进行第一次酸洗，以使上述基底的背面呈现为磨砂面，上述磨砂面的表面具有麻点；使用第二酸洗溶液对上述基底的背面进行第二次酸洗，以去除上述麻点。上...
该专利属于绍兴中芯集成电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过绍兴中芯集成电路制造股份有限公司授权不得商用。

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