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本发明提供一种能够提高处理性能的处理装置。等离子体生成部(18)通过基于等离子体放电的辐射热(H)(参考图2)进行加热，以去除真空腔室(10)内的水分。如此，通过使用等离子体生成部(18)中的基于等离子体放电的辐射热(H)，能够去除真空腔室...
该专利属于住友重机械工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过住友重机械工业株式会社授权不得商用。

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