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沟槽型MESFET制造技术
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文档序号:34381657
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提供一种沟槽型MESFET(1),具备:n型半导体层(11),其包括Ga2O3系单晶,具有在一个面(19)上开口的多个沟槽(12);绝缘体(14),其埋入于多个沟槽(12)各自的底部;栅极电极(13),其埋入于多个沟槽(12)各自的绝缘体(...
该专利属于诺维晶科股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过诺维晶科股份有限公司授权不得商用。
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