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一种版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质，方法包括：获取芯片设计版图，包括在第一方向上相邻接的第一标准单元区和第二标准单元区，在第二方向上，第一标准单元为第二标准单元的高度的整数倍，第一标准单元区有若干第一有源区，第二标准单元区有若干...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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