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本发明提供一种电容器及其制备方法，其中电容器包括：基底，所述基底上形成有着陆焊盘，所述着陆焊盘的材料包括：钨，所述着陆焊盘的顶部开设有连接槽，所述连接槽经由碱性刻蚀液去除所述着陆焊盘顶端的氧化物而形成；下电极，所述下电极的底部通过所述连接槽...
该专利属于真芯（北京）半导体有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过真芯（北京）半导体有限责任公司授权不得商用。

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