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本发明公开了一种锗晶片双面抛光的方法，抛光设备包括下盘、上盘和游星轮；下盘和上盘同心且相对设置、二者相对面上均设有抛光垫；上盘上有流药孔；下盘为环形，下盘内环内侧设有内齿圈，上盘外环外侧设外齿圈，内齿圈和外齿圈均可旋转，游星轮有3～5个，所...
该专利属于中锗科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中锗科技有限公司授权不得商用。

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