专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
美光科技公司
>
形成电荷阻挡材料的方法及具有电荷阻挡材料的集成组合件技术
>技术资料下载
下载形成电荷阻挡材料的方法及具有电荷阻挡材料的集成组合件的技术资料
文档序号:34317000
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一些实施例包含一种形成组合件的方法。在导电结构上方形成交替第一阶层及第二阶层的第一堆叠。形成延伸穿过所述第一堆叠的第一开口。用第一内衬材料加衬里于所述第一开口的侧壁。将所述第一内衬材料转化为第一电荷阻挡材料。在所述第一开口内形成牺牲材料。在...
该专利属于美光科技公司所有,仅供学习研究参考,未经过美光科技公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。