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本实用新型公开一种光学镀膜机的离子源，涉及光学镀膜机技术领域，解决了相关技术中离子源刚打开时可能导致光学镀膜机腔室内电路系统故障的技术问题。光学镀膜机的伞架和离子源均设于光学镀膜机的真空腔室中，离子源包括离子源本体和挡板，离子源本体设于伞架...
该专利属于武汉锐晶激光芯片技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉锐晶激光芯片技术有限公司授权不得商用。

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