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一种石墨舟片，设有硅片覆盖区，所述硅片覆盖区的正反面设有凹槽及位于所述凹槽所在区域的通孔。由此，可使硅片与石墨舟片贴合紧密，同时产生更均匀的电场，可有效解决背面绕镀问题，解决了当前管式设备针对N型硅片镀膜，如氧化铝以以及隧穿氧化层钝化接触T...
该专利属于江苏微导纳米科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏微导纳米科技股份有限公司授权不得商用。

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