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蒸发源装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:34207371
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本发明提供一种能够利用蒸发源周边的涂层抑制成膜品质的降低的技术。本发明的蒸发源装置(4)配备有:收容成膜材料(40)的收容部(46);以及筒状的喷嘴部(47),所述喷嘴部(47)具有用于排出被收容于收容部(46)的成膜材料(40)之中的因加...
该专利属于佳能特机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过佳能特机株式会社授权不得商用。
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