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本申请提供了一种半导体曝光设备的空气压力的控制方法及系统，其中，所述半导体曝光设备包括曝光区域和传输区域，该方法包括：获取曝光区域和传输区域的气压值；判断曝光区域的气压值是否小于或等于传输区域的气压值；若曝光区域的气压值小于或等于传输区域的...该专利属于北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）所有，仅供学习研究参考，未经过北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）授权不得商用。