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本发明的一方面提供一种CMP研磨液，其含有磨粒和阳离子性聚合物，阳离子性聚合物具有：包含氮原子及碳原子的主链、和键合于所述碳原子的羟基。该CMP研磨液还可以含有选自由含氨基的芳香族化合物及含氮杂环化合物组成的组中的至少一种环状化合物。本发明...
该专利属于昭和电工材料株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过昭和电工材料株式会社授权不得商用。

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