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本实用新型公开了一种刻蚀机的真空传送腔体,应用在刻蚀机领域,其技术方案要点是:包括腔体和分别设置在腔体两侧的进料口、传递窗口;腔体连接有抽真空组件和输气组件,腔体内外分别设置有内侧气压表和外侧气压表;进料口处设置有电控滑移门,内侧气压表和外...该专利属于无锡宇邦半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡宇邦半导体科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种刻蚀机的真空传送腔体,应用在刻蚀机领域,其技术方案要点是:包括腔体和分别设置在腔体两侧的进料口、传递窗口;腔体连接有抽真空组件和输气组件,腔体内外分别设置有内侧气压表和外侧气压表;进料口处设置有电控滑移门,内侧气压表和外...