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本实用新型公开了一种同轴结构微波等离子体镀膜设备，属于等离子体技术领域，包括有真空腔室，同轴微波源系统，所述同轴微波源系统通过馈入结构将特定频率和模式的能量馈入指定反应区域产生等离子体，并将工作气体沉积于所述空心圆柱衬底内测，完成材料的镀膜...
该专利属于中国科学院合肥物质科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院合肥物质科学研究院授权不得商用。

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