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半导体集成电路的电源电路制造技术
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由双扩散层形成的高耐压结构形成调整晶体管。在P↑[-]半导体基片的顶部形成N↑[-]阱,在N↑[-]阱内形成P↑[-]阱。用作调整晶体管的源极的N↑[+]扩散区和用作调整晶体管的背栅极的P↑[+]经过场氧化物薄膜形成在P↑[-]阱的顶部。由...
该专利属于日本电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日本电气株式会社授权不得商用。
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