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本实用新型属于镀膜领域，尤其是一种提高均一性的镀膜设备，针对现有的由于镀膜伞架的角度原因，部分基片的镀膜仍会厚度不一，这不利于镀膜的均一性的问题，现提出如下方案，其包括真空室，所述真空室的顶部内壁固定连接有安装座，安装座的底部固定连接有两个...
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