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本发明公开了一种降低无氧铜二次电子产额的表面处理方法，属于空间真空微波器件制造领域。该方法包括：对无氧铜薄片进行第一次超声清洗后作为阳极，在CuSO4溶液中进行表面电解处理，后进行第二次超声清洗备用；制备氧化石墨烯悬浮镀液和硫酸铜镀液；对无...
该专利属于中国电子科技集团公司第十二研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第十二研究所授权不得商用。

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