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电子传输层材料、QLED器件及其制备方法和显示装置制造方法及图纸
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文档序号:34006419
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本发明提出了电子传输层材料及其制备方法、QLED器件及其制备方法和显示装置。电子传输层材料,包括:掺杂有掺杂元素的金属氧化物,其中,掺杂元素包括Li和F。通过在金属氧化物中进行锂元素和氟元素的掺杂,有效降低了电子传输层的电子迁移速率,使得发...
该专利属于合肥福纳科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥福纳科技有限公司授权不得商用。
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