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本发明的目的在于提供一种半导体器件清洗中去除静电的方法。本发明采用溶剂对清洗前的晶圆进行预处理，释放掉晶圆表面的电荷，再利用化学药剂进行常规的清洗，消除了静电的危害，提高了晶圆的良率。提高了晶圆的良率。
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该专利属于安集微电子科技（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）股份有限公司授权不得商用。

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