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本发明提供一种用于钨抛光的化学机械抛光液，其包括：水、研磨颗粒、钨抛光促进剂、稳定剂、过氧化物、第一种钨的腐蚀抑制剂、第二种钨的腐蚀抑制剂。本发明的化学机械抛光液中两种腐蚀抑制剂的协同作用可以显著降低钨的静态腐蚀速率，提高钨的抛光速度与静态...
该专利属于安集微电子科技（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）股份有限公司授权不得商用。

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