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一种下电极组件及其包含下电极组件的等离子体处理装置,其中,所述下电极组件包括:基座;静电夹盘,位于所述基座上,用于吸附待处理基片,其材料为陶瓷非金属材料;气体输送管道,贯穿所述基座,用于输送气体;气体扩散腔、气体入口和气体出口,设于所述静电...该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。
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一种下电极组件及其包含下电极组件的等离子体处理装置,其中,所述下电极组件包括:基座;静电夹盘,位于所述基座上,用于吸附待处理基片,其材料为陶瓷非金属材料;气体输送管道,贯穿所述基座,用于输送气体;气体扩散腔、气体入口和气体出口,设于所述静电...