温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置，包括用于支撑上方设备的支撑机构，还包括用于对抛光液中的凝胶进行过滤的过滤机构、用于加快抛光液过滤速度的挤压机构，所述过滤机构安装在所述支撑机构上方，所述挤压机构固定在所述过滤机构上方。本实...
该专利属于深圳市川菱科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市川菱科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。