一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置，包括用于支撑上方设备的支撑机构，还包括用于对抛光液中的凝胶进行过滤的过滤机构、用于加快抛光液过滤速度的挤压机构，所述过滤机构安装在所述支撑机构上方，所述挤压机构固定在所述过滤机构上方。本实用新型专利技术通过设置挤压机构，抛光液添加完毕后闭合电磁阀，转动转把，转把带动螺纹杆转动，螺纹杆在螺纹套的作用下带动压板下降，压板下降从而对抛光液进行挤压，抛光液在压力的作用下加速通过第一过滤网和第二过滤网，如此达到加快过滤速度的目的，有效提高了过滤效率。有效提高了过滤效率。有效提高了过滤效率。

【技术实现步骤摘要】
一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置


[0001]本技术涉及CMP抛光液制备
，特别是涉及一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置。

技术介绍

[0002]抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽，同时也具有性能稳定、无毒，对环境无污染等优点。抛光液主要应用在LED行业和半导体行业。CMP抛光液属于抛光液的一种。
[0003]CMP抛光液制备时因加热不充分会产生凝胶，因此需要用过滤装置对凝胶进行过滤，现有的过滤装置存在如下问题亟待解决：
[0004]1、凝胶数量过多时会堵塞过滤网，如此会影响过滤作业的顺利进行；
[0005]2、凝胶过滤速度较慢，过滤所需时间长，过滤效率低下。

技术实现思路

[0006]本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置。
[0007]本技术通过以下技术方案来实现上述目的：
[0008]一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置，包括用于支撑上方设备的支撑机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置，包括用于支撑上方设备的支撑机构(1)，其特征在于：还包括用于对抛光液中的凝胶进行过滤的过滤机构(2)、用于加快抛光液过滤速度的挤压机构(3)，所述过滤机构(2)安装在所述支撑机构(1)上方，所述挤压机构(3)固定在所述过滤机构(2)上方；所述支撑机构(1)包括支撑板(101)、垫块(102)、防滑垫(103)，所述支撑板(101)下方固定有所述垫块(102)，所述垫块(102)下方安装有所述防滑垫(103)；所述过滤机构(2)包括过滤罐(201)、安装座(202)、加热环(203)、第一固定环(204)、第一过滤网(205)、第一把手(206)、第二固定环(207)、第二过滤网(208)、第二把手(209)、进料管(210)、电磁阀(211)、出料管(212)、固定杆(213)，所述过滤罐(201)内部固定有所述安装座(202)，所述安装座(202)内部固定有所述加热环(203)，所述安装座(202)上设置有所述第一固定环(204)，所述第一固定环(204)内侧安装有所述第一过滤网(205)，所述第一固定环(204)上方安装有所述第一把手(206)，所述第一过滤网(205)下方设置有所述第二把手(209)，所述第二把手(209)下方安装有所述第二固定环(207)，所述第二固定环(207)内侧安装有所述第二过滤网(208)，所述过滤罐(201)上安装有所述进料管(210)，所述进料管(210)上固定有所述电磁阀(211)，所述过滤罐(201)下方固定有所述出料管(212)，所述过滤罐(201)两侧安装有所述固定杆(213)；所述挤压机构(3)包括密封盖(301)、侧板(302)、螺纹套(303)、螺纹杆(304)、转把(305)、转动座(306)、压板(307)、导向组件(308)，所述密封盖(301)两侧固定有所述侧板(302)，所述密封盖(301)内侧安装有所述螺纹套(303)，所述螺纹套(303)内侧安装有所述螺纹杆(304)，所述螺纹杆(304)上方固定有所述转把(305)，所述螺...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘龙，
申请(专利权)人：深圳市川菱科技有限公司，
类型：新型
国别省市：