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本实用新型涉及设备清洗技术领域，且公开了一种真空镀膜机腔体清洗装置，包括底座、腔体和清洗组件，所述腔体放置于底座的顶部，所述腔体的内部设置有旋转挂架，所述清洗组件设置在腔体的顶端开口处，且对腔体的内部进行清洗，所述清洗组件包括盖板、电机、水...
该专利属于玛奇纳米科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过玛奇纳米科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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