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本申请公开了一种减少掩模版上图形布局误差的处理方法，包括：提供一空白掩模版；所述空白掩模版包括由下而上层叠设置的透明基板、缓冲层和遮光层；对所述遮光层进行图形化处理，得到图形化处理后的遮光层；对所述图形化处理后的遮光层进行图形检查及修正；对...
该专利属于真芯（北京）半导体有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过真芯（北京）半导体有限责任公司授权不得商用。

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