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本发明提供了一种半导体CVD设备用锅形陶瓷件加工方法及系统,包括以下步骤:步骤S1:将粉料加工成坯料进行一次成型烧结;步骤S2:将烧结好的坯料放进治具中,并通过治具上的螺丝锁紧固定坯料;步骤S3:将坯料连同治具放在平面磨床上,采用砂轮精磨平...该专利属于卡贝尼新材料科技(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过卡贝尼新材料科技(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种半导体CVD设备用锅形陶瓷件加工方法及系统,包括以下步骤:步骤S1:将粉料加工成坯料进行一次成型烧结;步骤S2:将烧结好的坯料放进治具中,并通过治具上的螺丝锁紧固定坯料;步骤S3:将坯料连同治具放在平面磨床上,采用砂轮精磨平...