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本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆，所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作...
该专利属于上海市计量测试技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过上海市计量测试技术研究院授权不得商用。

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