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本实用新型公开了一种化学机械抛光垫。本实用新型的化学机械抛光垫包括上抛光层和下抛光层；所述上抛光层采用包括粘贴的方式设置在所述下抛光层的表面上，摒弃了缓冲层，使得该化学机械抛光垫可以直接使用；所述上抛光层为棱柱阵列层，且相邻的棱柱之间形成具...
该专利属于广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院所有，仅供学习研究参考，未经过广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院授权不得商用。

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