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氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法技术
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文档序号:33767437
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本发明提供一种氧化物溅射靶,其由氧化物构成,该氧化物含有锆、硅及铟作为金属成分,氧化锆相(11)的最大粒径为10μm以下。化锆相(11)的最大粒径为10μm以下。化锆相(11)的最大粒径为10μm以下。
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该专利属于三菱综合材料株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱综合材料株式会社授权不得商用。
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