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本发明提供一种超结器件及制作方法,包括:1)在第一衬底及第二衬底的第一主面刻蚀出第一沟槽及第二沟槽,沟槽呈倒梯形;2)将第一衬底与第二衬底键合;3)减薄第一衬底,并保留一支撑层;4)氧化支撑层,腐蚀去除氧化层,以显露沟槽,所述沟槽呈纺锤形结...该专利属于上海功成半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海功成半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种超结器件及制作方法,包括:1)在第一衬底及第二衬底的第一主面刻蚀出第一沟槽及第二沟槽,沟槽呈倒梯形;2)将第一衬底与第二衬底键合;3)减薄第一衬底,并保留一支撑层;4)氧化支撑层,腐蚀去除氧化层,以显露沟槽,所述沟槽呈纺锤形结...