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本实用新型公开了一种芯片生产用的湿法刻蚀机，包括晶圆湿法刻蚀装置，晶圆水洗装置和晶圆干燥装置，晶圆湿法刻蚀装置包括第一机架，第一机架上安装有的刻蚀输送辊组，所述刻蚀输送辊组一对输送辊组之间安装有若干条间隔的刻蚀输送带，晶圆水洗装置包括相互衔...
该专利属于山东华楷微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东华楷微电子装备有限公司授权不得商用。

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