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本发明提供一种晶圆扫描路径的优化方法、系统、设备及晶圆检测方法，属于半导体晶圆检测技术领域，该晶圆扫描路径的优化方法通过根据待扫描区域、扫描成像视野和重叠区域的限制条件作为恒定参量，以扫描数量和实际重叠区域作为需要优化的参量，建立不等式模型...
该专利属于武汉精测电子集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉精测电子集团股份有限公司授权不得商用。

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