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本发明提供了一种自偏置铁氧体基板用高剩磁M型六角铁氧体及制备方法。通过适宜的球磨、预烧工艺，结合湿法磁场成型工艺制备生坯，再结合优化的烧结工艺，最终制备一种高剩磁M型钡铁氧体材料。其特征在于，饱和磁化强度约4300Gs，剩磁约3500Gs，...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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