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公开了一种用于处理基板的设备，该设备可以包括：其中具有用于处理基板的空间的腔室；在腔室中支撑基板的支撑单元；将气体供应到腔室中的气体供应单元；以及将腔室中的气体激发成等离子体状态的等离子体产生单元，其中所述等离子体产生单元可以包括：高频电源...
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